Intel’in 18A EUV teknolojisinde devreye aldığı gerçek zamanlı deformasyon düzeltme sistemi sayesinde yarı iletken üretim hataları %40 gerileyecek. Dünyanın en ileri litografik sürecinde ısı ve basınç kaynaklı mikron düzeyindeki bozulmalar artık anında tespit ediliyor.
